光固化3D打印是由摩方精密自主研发的超高精度微尺度3D打印系统。设备采用面投影微立体光刻（PμSL: Projection Micro Stereolithography）技术，是目前行业极少能实现超高打印精度、高公差加工能力的3D打印系统。

一、光固化3D打印产品介绍

设备采用面投影微立体光刻（PμSL: Projection Micro Stereolithography）技术，该技术使用高精密紫外光刻投影系统，将需打印图案投影到树脂槽液面，在液面固化树脂并快速微立体成型，从数字模型直接加工三维复杂的模型和样件，完成样品的制作。该技术具备成型效率高、打印精度高等突出优势，被认为是目前最有前景的微纳加工技术之一。

二、光固化3D打印基本参数

光源：UV-LED(405nm)

打印材料：硬性树脂、耐高温树脂、韧性树脂、生物兼容性树脂等

光学精度：2μm

打印层厚：5-20μm

打印尺寸：

①模式一：3.84m(L)×2.16mm(W)×10mm(H)（单投影模式）

②模式二：38.4㎜(L)×21.6㎜(W)×10㎜(H)（拼接模式）

③模式三：50㎜(L)×50㎜(W)×10㎜(H)（重复阵列模式）

文件格式：STL

系统外形尺寸：1720㎜(L)×750㎜(W)×1820㎜(H)

重量：550kg

电气要求：200-240V AC,50/60HZ,3kW

三、应用领域

nanoArch S130 2μm精度微纳3D打印系统可广泛应用于力学超材料、生物医疗、微机械结构、微流控、三维复杂仿生结构等领域。

作为微纳3D打印行业，在三维复杂结构微纳加工领域，BMF Material团队拥有超过二十年的科研经验，针对客户在项目研究中可能出现的工艺和材料难题，我们将持续提供简易高效的技术支持方案。