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摩方超高精度光固化3d打印机

产品简介

摩方超高精度光固化3d打印机microArch® S230 2μm高精度微纳3D打印系统,基于BMF摩方的技术⸺面投影微立体光刻技术(PμSL)构建。全自动水平调节系统:平台自动调平、膜面自动调平、滚刀自动调节三大系统,打印效率提升近50倍。

产品型号:microArch® S230A
更新时间:2024-09-18
厂商性质:生产厂家
访问量:256

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品牌摩方精密应用领域生物产业,航天,制药,综合

microArch® S230 系统简介

光学精度:2μm;

打印幅面:50×50mm;

极限微尺度复合树脂增材制造设备。


系统性能

光源:UV-LED(405nm)

打印材料:光敏树脂

光学精度:2μm

打印层厚:5~20μm

打印样品尺寸:

模式1:单投影模式:3.84mm(L)×2.16mm(W)×50mm(H)

模式2:拼接模式:50mm(L)×50mm(W)×50mm(H)

模式3:重复阵列模式:50mm(L)×50mm(W)×50mm(H)

打印文件格式:STL

系统外形尺寸:1720mm(L)×750mm(W)×1820mm(H)

重量:660kg

电气要求:220~240V AC,50/60HZ,2KW


设备特点优势

超高精度:光学精度高达2μm;

配置激光测距,便于打印平台和离型膜的调平;

配置滚刀,用于打印材料快速流平,且支持打印高黏度树脂;

配备高精密运动控制系统,XYZ运动轴的重复定位精度±0.2μm;

工业级的设备标准,易操作,易维护;

配置气浮平台,提高打印质量;

优良的光源稳定性;

配套量身定制的打印软件、切片软件。


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